上海龙凤1314 shlf反应温度对甲烷部分氧化Ni/SiC催化剂催化行为的影响

利用X射线衍射、热重分析、X射线光电子能谱、透射电镜等方法,考察了反应温度对甲烷部分氧化Ni/SiC催化剂活性和积炭的影响.结果表明,在甲烷部分氧化过程中,反应温度不仅影响催化剂的活性,而且影响催化剂活性组分的存在形式、积炭量以及积炭的形貌.在500℃下,催化剂活性很低,表面Ni物种十分复杂,催化剂积炭严重,主要为碳纳米管.但在850℃下,催化剂具有稳定的高活性,活性组分表面物种主要为金属Ni,催化剂积炭量少,主要为壳状碳.

作 者： 孙卫中 武向阳 靳国强 郭向云 SUN Wei-zhong WU Xiang-yang JIN Guo-qiang GUO Xiang-yun   作者单位： 孙卫中,武向阳,SUN Wei-zhong,WU Xiang-yang(中国科学院山西煤炭化学研究所,煤转化国家重点实验室,山西,太原,030001;中国科学院研究生院,北京,100039)

上海龙凤1314 shlf靳国强,郭向云,JIN Guo-qiang,GUO Xiang-yun(中国科学院山西煤炭化学研究所,煤转化国家重点实验室,山西,太原,030001) 

刊 名： 分子催化  ISTIC PKU 英文刊名： JOURNAL OF MOLECULAR CATALYSIS(CHINA)  年，卷(期)： 2007 21(3)  分类号： O643.32  关键词： 甲烷部分氧化   Ni/SiC催化剂   积炭  

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